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中国有多少个在职少将,中国现有多少在职上将 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日(rì)消息,国家知识产(chǎn)权局(jú)局长申长雨在新闻发布会上表(biǎo)示,将统筹(chóu)推(tuī)进各类知(zhī)识(shí)产(chǎn)权法律法规和制度规则的(de)制(zhì)修订工作(zuò)。其中(zhōng),修(xiū)改完善(shàn)集成(chéng)电路布图(tú)设计保护条例,适应大规(guī)模集成电路发展需要,助力芯片产业(yè)做大做(z中国有多少个在职少将,中国现有多少在职上将uò)强,服务数(shù)字经济更好发展。

  加强大数据、人工智能、基因技术等新领(lǐng)域(yù)新业态(tài)知识产(chǎn)权规则研究(jiū),助力相关领域创新发展(zhǎn)。同(tóng)时,积极参(cān)与知(zhī)识(shí)产权(quán)国际规(guī)则制定,更(gèng)好对接高标准国际经贸规则,助力高水平对外开(kāi)放。

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